應用指南
半導體
在半導體制造的薄膜沉積、光刻、刻蝕、離子注入、封裝等工藝中，需要高真空或超高真空環境來確保工藝的精確性和產品質量。例如在真空鍍膜中，思科渦旋真空泵可提供穩定的真空環境，使薄膜均勻沉積在半導體晶圓表面；在芯片封裝過程中，能抽取腔體形成真空，防止芯片氧化和雜質進入。同時，在芯片封裝或半導體生產過程中，需要對設備進行真空處理，以去除內部氣體，確保產品性能和可靠性。渦旋真空泵能夠提供高精度的真空環境，是半導體行業的重要設備。